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题名:
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等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用 deng li zi ti shi ke ji qi zai da gui mo ji cheng dian lu zhi zao zhong de ying yong / 张海洋等编著 , |
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ISBN:
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978-7-302-61439-5 价格： CNY149.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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423页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2023.01 |
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内容提要:
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本书共10章, 基于公开文献全方位地介绍了低温等离子体蚀刻技术在半导体产业中的应用及潜在发展方向。以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇, 对传统及已报道的先进等离子体蚀刻技术的基本原理做相应介绍, 随后是占据了本书近半篇幅的逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的深度解读。此外, 还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系, 聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望, 以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。 |
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主题词:
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大规模集成电路 集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405.98 版次： 5 |
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主要责任者:
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张海洋 zhang hai yang 编著 |
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版次:
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第2版 |
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附注:
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“十三五”国家重点图书出版规划项目 |